熱電材料の薄膜形成過程における熱伝導率インプロセス測定に関する研究(第3報  サブミクロン薄膜用装置の開発)

長島雅幸; 実川仁美; 長坂雄次; 吉田隆; 須藤公彦; 中里典生

文献

J-GLOBAL ID：200902275974479827 整理番号：04A0470977

熱電材料の薄膜形成過程における熱伝導率インプロセス測定に関する研究(第3報サブミクロン薄膜用装置の開発)

Development of in situ Meaurement Technique to Evaluate Thermal Conductivity of Thermoelectric Device during Thin Film Production Process (3rd Report, Development of Apparatus for Measuring Submicron Thin Films)

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資料名：
巻： 41st 号： Vol.3 ページ： 637-638 発行年： 2004年05月26日
JST資料番号： F0872C 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

薄膜ペルチェ素子の性能は素子に用いられる材料の物性値で与えら...

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熱伝導

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熱電材料の薄膜形成過程における熱伝導率インプロセス測定に関する研究(第3報 サブミクロン薄膜用装置の開発)

熱電材料の薄膜形成過程における熱伝導率インプロセス測定に関する研究(第3報サブミクロン薄膜用装置の開発)