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J-GLOBAL ID：200902276204326930   整理番号：08A0565307

電子ビーム誘起反応過程による強誘電薄膜のミクロパターニング

Micropatterning of Ferroelectric Thin Films by Electron-Beam-Induced Reaction Process

著者 (3件)： FUJII Tadashi (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  MATSUNAGA Hiroaki (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  ADACHI Masatoshi (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 47  号： 1 Issue 2  ページ： 647-648  発行年： 2008年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 強誘電薄膜のミクロパターニングは,高密度強誘電ランダムアクセスメモリ,センサおよびアクチュエータを実現する有用な技術である。(Pb,Sr)TiO₂ミクロパターンの500nmから20μmの大きさの円形ドットを電子ビーム誘起反応過程により,走査電子顕微鏡に基づく電子ビームリソグラフィーシステムを使って作成した。圧電応答を10μmサイズドットで圧電応答走査力顕微鏡により観察した。原子間力顕微鏡を使って,各々作成したドットパターンがメサ形状になっていることを見いだした。高密度の100nmサイズドットを得るため,EB照射と結晶化条件をさらに最適化する必要があった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *パターン形成 ,  強誘電体 ,  *誘電体薄膜 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子ビームリソグラフィー ,  原子間力顕微鏡 ,  メサ構造 ,  *電子照射 ,  鉛化合物 ,  ストロンチウム化合物 ,  チタン酸塩 ,  RTA【熱処理】
準シソーラス用語： 電子ビーム照射

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (7件)：

• K. Mori and S. Okamura: Jpn. J. Appl. Phys.31(1992) L1143.
• S. Okamura, T. Mackawa, K. Suzuki, and T. Shiosaki: Jpn. J. Appl. Phys.41(2002)6754.
• Y. K. Kim, K. S. Lee, and S. Balk: J. Mater. Res.16(2001)2463.
• T. Karaki, J. Du, T. Fujii, and M. Adachi: Jpn. J. Appl. Phys.41(2002)6761.
• T. Fujii, J. Du, T. Karaki, and M. Adachi: J. Korean Phys. Soc.42(2003) S1178.

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子ビーム ,  誘起 ,  反応過程 ,  強誘電薄膜 ,  パターニング