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J-GLOBAL ID：200902277314952069   整理番号：09A0735552

化学増幅極端紫外線(EUV)レジスト材料としての新しいノリア(水車様環状オリゴマ)誘導体

Novel Noria (Water Wheel-Like Cyclic Oligomer) Derivative as a Chemically Amplified Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Material

著者 (5件)： NISHIKUBO Tadatomi (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  KUDO Hiroto (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  SUYAMA Yuji (Kanagawa Univ., Yokohama, JPN) ,  OIZUMI Hiroaki (Semiconductor Leading Edge technol., Inc., Ibaraki, JPN) ,  ITANI Toshiro (Semiconductor Leading Edge technol., Inc., Ibaraki, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 22  号： 1  ページ： 73-76  発行年： 2009年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2-メチルアダマンタン-2-イルエステル基を含む新しいノリア誘導体(noria-AD)を,ノリアと2-クロロアセチルオキシ-2-メチルアダマンタンとの反応で合成し,その構造はIRと¹H-NMRで確認した。EUVレジスト材料として適用できるnoria-ADの物理的性質(溶解度,薄膜形成能,熱安定性)及びパターン形成特性を調べた。パターン形成特性からは,noria-ADが26~40nmの分解能で明瞭な線及び空間パターン形成を行なうことを示した。

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,  *フォトレジスト ,  オリゴマ ,  環状構造 ,  極端紫外線 ,  *大環状化合物 ,  溶解度 ,  半導体薄膜 ,  熱安定性 ,  パターン形成 ,  架橋化合物 ,  *多価フェノール ,  脂環式化合物 ,  フィルム形成能 ,  カルボン酸エステル

分類 (2件)： 芳香族単環フェノール類・多価フェノール  (CF05090V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： クロロ酢酸2-メチル-2-アダマンチル

引用文献 (18件)：

• For example: Reviews:(a) A. M. Goethals, G Vandenberghe, I. Pollentier, M. Ercken, P. De. Bisschop, M. Maenhoudt, K. Ronse, J. Photopolym. Sci. Technol., 14, 333(2001).(b) H. Ito, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 41, 3863(2003).
• For example:(a) S. A. MacDonald, C. G. Willson, J. M. J. Frechet, Acc. Chem. Res., 27, 151(1994).(b) C. G Willson, B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. Chambers, R. Y. Hedieh, T. Chiba, P. Zimmerma, D. Miller, W. Conley, J. Photopolym. Sci. Tecnol., 15, 583(2002).(c) C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y. Kwark, X. Liu, W. Conley, D. Miller, P. Zimmerman, J. Photopolym. Sci., Technol., 15, 603(2002).(d) H. Ito, G M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, D. Miller, M. Sherwood, R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, 693(2002).(e) Z. M. Fresco, N. Bensel, I. Suez, S. A. Backer, J. M. J. Frechet, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 27(2003).
• For example, C. G. Willson, H. Ito, J. M. J. Frechet, T. G. Tessier, F. M. Houlihan, J. Electrochem. Soc., 133, 181(1986).
• For example. Development and Application of Extreme Ultraviolet Light Source, K. Toyota, S. Okazaki. Eds.; CMC: Tokyo,(2007).
• J. Dai, S. W. Chang, A. Hamad, D. Yang, N. Felix, C. K. Ober, Chem. Mater., 18, 3404(2006).

タイトルに関連する用語 (8件)： 化学 ,  増幅 ,  極端紫外線 ,  EUV ,  レジスト材料 ,  ノリア ,  水車様環状オリゴマ ,  誘導体