文献

J-GLOBAL ID：200902278311875361   整理番号：09A0425262

ナノ光リソグラフィーによる金属ナノ構造の作製と評価

著者 (8件)： 上野貢生 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (JST-PRESTO) ,  高畠聡章 (北大 電子科研) ,  西島喜明 (北大 電子科研) ,  SUN Kai (北大 電子科研) ,  MIZEKIS Vygantas (静大 電子研) ,  JUODKAZSI Saulius (北大 電子科研) ,  三澤弘明 (北大 電子科研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 56th  号： 3  ページ： 1083  発行年： 2009年03月30日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  *フォトリソグラフィー ,  近接場 ,  *パターン形成 ,  金 ,  フォトレジスト ,  フォトマスク ,  表面プラズモン ,  基板 ,  ガラス ,  *金属薄膜 ,  *スパッタリング ,  微細加工 ,  マスク
準シソーラス用語： リフトオフ

分類 (3件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 光リソグラフィー ,  金属ナノ構造 ,  作製 ,  評価