プラズマエッチング装置内における粒子の低減と制御

MORIYA Tsuyoshi; NAKAYAMA Hiroyuki; NAGAIKE Hiroshi; KOBAYASHI Yoshyuki; SHIMADA Manabu; OKUYAMA Kikuo

文献

J-GLOBAL ID：200902287151992608 整理番号：05A1006226

プラズマエッチング装置内における粒子の低減と制御

Particle reduction and control in plasma etching equipment

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資料名：
巻： 18 号： 4 ページ： 477-486 発行年： 2005年11月
JST資料番号： T0521A ISSN： 0894-6507 CODEN： ITSMED 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

プラズマエッチング装置内の粒子がウエハに固着し,欠陥が生じる...

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固体デバイス製造技術一般 , 空気浄化

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