文献

J-GLOBAL ID：200902287635881681   整理番号：04A0035422

H₂O導入dcマグネトロンスパッタリングにより堆積したITO膜の微細構造

Microstructures of ITO films deposited by d.c. magnetron sputtering with H₂O introduction

著者 (4件)： NISHIMURA E (Aoyama Gakuin Univ., Kanagawa, JPN) ,  OHKAWA H (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  SONG P K (Aoyama Gakuin Univ., Kanagawa, JPN) ,  SHIGESATO Y (Aoyama Gakuin Univ., Kanagawa, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 445  号： 2  ページ： 235-240  発行年： 2003年12月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： H₂O導入有り/無しのdcマグネトロン...

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,...
準シソーラス用語： ITO【固溶体】

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0035422&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0899A") }}

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： しゅう酸

タイトルに関連する用語 (5件)： H2O ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  ITO膜 ,  微細構造