研究者

J-GLOBAL ID：200901047148635239 更新日: 2020年04月30日

西村絵里子

ニシムラエリコ | Nishimura Eriko

所属機関・部署：
職名：大学院生(博士課程)

研究分野 (1件)：無機・錯体化学

研究キーワード (4件)：機器分析 , 薄膜プロセス , Instrumental Analysis , Thin Film Process

競争的資金等の研究課題 (2件)：

2002 - 2005 酸化物薄膜の表面処理を用いた構造解析の研究
2002 - 2005 Study on Analysis of Oxide Thin Films Using Surface Treatments.

MISC (6件)：

T Sasabayashi, N Ito, E Nishimura, M Kon, PK Song, K Utsumi, A Kaijo, Y Shigesato. Comparative study on structure and internal stress in tin-doped indium oxide and indium-zinc oxide films deposited by r.f. magnetron sputtering. THIN SOLID FILMS. 2003. 445. 2. 219-223
E Nishimura, H Ohkawa, PK Song, Y Shigesato. Microstructures of ITO films deposited by d.c. magnetron sputtering with H2O introduction. THIN SOLID FILMS. 2003. 445. 2. 235-240
Deposition of Carbon-Rich Film during Etching of Alminum and Alminum oxide Surfaces. J. Electrochem. Soc. 1997. 144, 2142-2146
Depth profiling of cu in si by glow discharge mass spectrometry(GDMS). Proceedings of 11th international conference on secondary ion mass spectrometry(SIMSΧΙ). 1997. 1087-
Depth profiling of cu in si by glow discharge mass spectrometry(GDMS). Proceedings of 11th international conference on secondary ion mass spectrometry(SIMSΧΙ). 1997. 1087-

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学位 (1件)：

修士(理学) (奈良女子大学)

所属学会 (2件)：

応用物理学会 , The Japan Society of Applied physics

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