TSUNEKAWA Koji について
Canon ANELVA Corp., Tokyo, JPN について
DJAYAPRAWIRA David D. について
Canon ANELVA Corp., Tokyo, JPN について
YUASA Shinji について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について
YUASA Shinji について
JST-PRESTO, Saitama, JPN について
NAGAI Motonobu について
Canon ANELVA Corp., Tokyo, JPN について
MAEHARA Hiroki について
Canon ANELVA Corp., Tokyo, JPN について
YAMAGATA Shinji について
Canon ANELVA Corp., Tokyo, JPN について
OKADA Eriko について
Canon ANELVA Corp., Tokyo, JPN について
WATANABE Naoki について
Canon ANELVA Corp., Tokyo, JPN について
SUZUKI Yoshishige について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について
SUZUKI Yoshishige について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
ANDO Koji について
National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について
IEEE Transactions on Magnetics について
多結晶 について
抵抗面積積 について
電子・磁気・光学記録 について
MgO について
障壁 について
磁性トンネル接合 について
巨大磁気抵抗 について
接合抵抗 について