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J-GLOBAL ID：200902291836459560   整理番号：08A0122452

LWM9000走査電子顕微鏡によるEUVマスクの精度性能と走査損傷の研究

A Study of precision performance and scan damage of EUV masks with the LWM9000 SEM

著者 (9件)： YONEKURA Isao (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  HAKII Hidemitsu (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  YOSHII Takashi (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  NEGISHI Yoshiyuki (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  OOHIRA Katsumi (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  KANAYAMA Koichirou (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  KAWASHITA Masashi (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  SAKATA Yo (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN) ,  TANAKA Keishi (Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6730  号： Pt.3  ページ： 67305H.1-67305H.12  発行年： 2007年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線(EUV)マスクは反射型でその膜及び構造は既存のマスクとは大きく異なる。Vistec/AdvantestのLWM9000走査電子顕微鏡(SEM)を用いてEUVマスクを測定した。二種類のEUVマスクを用いて静的及び動的測定精度と測定時の電子ビーム照射による帯電の影響を調べた。LWM9000 SEMの光学的機能を用いて静的精度を改善した。LWM9000 SEMはオゾンを用いて槽をその場洗浄するので,電子ビームとオゾン圧力の相互作用も調べた。電子ビーム走査前後のEUVマスクを評価した。

シソーラス用語： 極端紫外線 ,  *フォトマスク ,  フォトリソグラフィー ,  *走査電子顕微鏡 ,  電子ビーム ,  電子照射 ,  帯電 ,  測定精度 ,  *損傷 ,  オゾン ,  圧力効果
準シソーラス用語： *走査損傷 ,  圧力依存性

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 走査電子顕微鏡 ,  EUVマスク ,  走査 ,  損傷 ,  研究