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J-GLOBAL ID：200902292401109911   整理番号：03A0509046

原子間力顕微鏡(AFM)を用いて解析したレジスト微細パターンの凝集性

Cohesion Property of Resist Micro Pattern Analyzed by Using Atomic Force Microscope (AFM)

著者 (1件)： KAWAI A (Nagaoka Univ. Technol. Niigata, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 16  号： 3  ページ： 381-386  発行年： 2003年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子凝集体の凝縮性を,典型的なAFM技術(短針先端での崩壊...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...
準シソーラス用語： ネガ型レジスト ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

引用文献 (11件)：

• 1. A.L.R. Bug, M.E. Cates, A.A. Safran and T.A. Witten, J. Chem. Phys. 87 (1987) 1824.
• 2. T. Yoshimura, H. Shiraishi, J. Yamamoto and Shinji Okazaki, Appl. Phys. Lett. 63 (1993) 764.
• 3. L.E. Ocola, P.A. Orphanos, W.-Y. Li, W. Waskiewicz, A.E. Novembre and M. Sato, J. Vac. Sci. Technol. B 18 (2000) 3435.
• 4. G. Binnig, C.F. Quate and Ch. Gerber, Phys. Rev. Lett. 56 (1986) 930.
• 5. R.W. Stark, T. Drobek, M. Weth, J. Fricke and W.M. Heckl, Ultramicroscopy 75 (1998) 161.

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子間力顕微鏡 ,  AFM ,  解析 ,  レジスト ,  微細パターン ,  凝集性