特許
J-GLOBAL ID：200903000048368005
露光装置のフォーカス管理方法および露光装置用フォーカス管理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-249817
公開番号（公開出願番号）：特開平9-092606
出願日： 1995年09月27日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：
【要約】【課題】 露光装置の稼働率を下げることがなく、同一ロット内での品質を一定することができ、且つ、フォーカスの調整結果の信頼性を向上させることができる露光装置用フォーカス管理装置を提供する。【解決手段】 レティクル14を用いて、ウエハ12の表面に形成された段差に同一断面寸法の光を投影する露光手段13,15と、この露光過程13,15によって段差のそれぞれに転写されたパターンの寸法を測定するパターン測定器16と、このパターン測定器16の測定結果および段差の光路差からフォーカスのずれ量を判断し、このずれ量に基づいて光学系15のフォーカスを補正するための補正データを生成するCPU17と、このCPU17で得られた補正データに基いて光学系15のフォーカスを調整するフォーカス調整器18とを備える。
請求項（抜粋）：
露光パターンが描画されたレティクルに光を透過させ、この透過光を光学系で縮小してから被処理基板に投影する露光装置における、前記光学系のフォーカス管理方法において、前記被処理基板の表面に段差を形成する基板加工過程と、同一断面寸法の透過光が前記段差のそれぞれに投影されるような露光パターンを前記レティクルに描画するレティクル描画工程と、このレティクル描画工程で描画された前記レティクルを用いて、前記被処理基板の表面に形成された前記段差のそれぞれに同一断面寸法の光を投影する露光過程と、この露光過程によって前記段差のそれぞれに転写されたパターンの寸法を測定する測定過程と、この測定過程の測定結果および前記段差の光路差からフォーカスのずれ量を判断し、このずれ量に基づいて前記光学系のフォーカスを補正するための補正データを生成するデータ生成過程と、このデータ生成過程で得られた前記補正データに基いて前記光学系のフォーカスを調整する調整過程と、を備えたことを特徴とする露光装置のフォーカス管理方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 526 Z
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 502 W
