特許
J-GLOBAL ID:200903000102947148

平面導波路型光回路およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深見 久郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-091601
公開番号(公開出願番号):特開平11-287917
出願日: 1998年04月03日
公開日(公表日): 1999年10月19日
要約:
【要約】【課題】 簡単な工程によって製造することができかつ高い精度で配置された光回路を有する平面導波路型光回路を提供する。【解決手段】 平面導波路型光回路は、シリカガラス基板1と、基板1中に作り込まれた光導波路7とを備える。光導波路7は、基板1にX線4を照射することにより周囲よりも屈折率が高められた基板1の部分である。光導波路7を形成するため、X線マスク6を介してシリカガラス基板1に照射されるX線4の光子エネルギは、1.8keV〜20keVである。
請求項(抜粋):
シリカ系ガラスからなる基板と、前記基板中に作り込まれた光導波路とを備え、前記光導波路は、前記基板にX線を照射することにより周囲よりも屈折率が高められた前記基板の部分であることを特徴とする、平面導波路型光回路。
IPC (2件):
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2件):
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
引用特許:
審査官引用 (4件)
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