試料保持装置及び試料研磨装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河野登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-185359
公開番号（公開出願番号）：特開2000-015562
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】研磨対象となる試料の研磨面に可及的に均一な温度分布を実現し、全面に亘って可及的に均一な研磨レートでの化学機械研磨を可能とする試料保持装置及び試料研磨装置を提供する。【解決手段】研磨対象となる試料Wをその下面に保持する試料保持装置1の保持定盤10の内部に、その中心部から外縁部に向けて渦巻き状をなす媒体流路4を形成する。この媒体流路4の一側端部を給水ポンプPに、他側端部を排水タンクTに夫々接続して、媒体流路4の内部に冷却水を流し、この冷却水との熱交換により試料Wの温度を制御する。

請求項（抜粋）：

化学機械研磨される試料をその一面に保持し、この保持面と略直交する軸回りに回転する回転基台に取り付けられた保持定盤を備える試料保持装置において、前記保持定盤の内部に、その中心部から外縁部に向けて渦巻き状をなして形成された媒体流路と、該媒体流路に冷却媒体を給排する媒体給排手段とを具備することを特徴とする試料保持装置。

IPC (2件)：

B24B 37/00 , B24B 37/04

FI (2件)：

B24B 37/00 J , B24B 37/04 K

Fターム (7件)：

3C058AA07 , 3C058AC02 , 3C058AC04 , 3C058BA01 , 3C058BA08 , 3C058CB01 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭61-265262
特開平4-217457
特開平2-199834

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