特許

J-GLOBAL ID：200903000126532461

反射防止膜、反射防止膜の製造方法、反射防止膜用鋳型、反射防止膜用鋳型を用いて得られた反射防止膜及びレプリカ膜を用いて得られた反射防止膜

発明者： 石井 昌彦 ,  中村 浩
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 長濱 範明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-318076
公開番号（公開出願番号）：特開2009-139796
出願日： 2007年12月10日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：

【課題】可視光領域の波長の光を照射した際に発色を生じることなく、可視光領域の波長の光に対して十分に優れた反射防止性能を有し、しかも簡便な方法で製造することが可能な反射防止膜を提供すること。【解決手段】透明基材上に積層される反射防止膜であって、 前記反射防止膜が、透明樹脂と該透明樹脂中に分散された微粒子とからなり、前記微粒子の最近接粒子同士の中心間の平均距離が50〜800nmの範囲にあり、前記反射防止膜中の前記微粒子の配列構造がアモルファス構造であり、且つ、前記反射防止膜の表面に凸部の平均高さが40〜500nmの範囲にある凹凸形状が形成されていることを特徴とする反射防止膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

透明基材上に積層される反射防止膜であって、 前記反射防止膜が、透明樹脂と該透明樹脂中に分散された微粒子とからなり、 前記微粒子の最近接粒子同士の中心間の平均距離が50〜800nmの範囲にあり、 前記反射防止膜中の前記微粒子の配列構造がアモルファス構造であり、且つ、 前記反射防止膜の表面に凸部の平均高さが40〜500nmの範囲にある凹凸形状が形成されていること、 を特徴とする反射防止膜。

IPC (6件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 ,  B29C 33/38 ,  B29C 41/38 ,  B29C 39/26 ,  C01B 33/12

FI (6件)：

G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  B29C33/38 ,  B29C41/38 ,  B29C39/26 ,  C01B33/12 C

Fターム (45件)：

2K009AA04 ,  2K009BB02 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD12 ,  2K009DD15 ,  4F100AA20 ,  4F100AG00 ,  4F100AK01B ,  4F100AK25 ,  4F100AR00A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100DD07B ,  4F100DE01B ,  4F100EH46 ,  4F100EJ08B ,  4F100EJ15B ,  4F100JB14 ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100JN06B ,  4F100YY00B ,  4F202AA33A ,  4F202AF01 ,  4F202AG01 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ05 ,  4F202AJ07 ,  4F202CA01 ,  4F202CA07 ,  4F202CB01 ,  4F202CD01 ,  4F202CK11 ,  4G072AA41 ,  4G072BB09 ,  4G072FF01 ,  4G072GG02 ,  4G072HH14 ,  4G072JJ47 ,  4G072MM02 ,  4G072UU30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 反射防止膜、その製造方法、反射防止膜製造用スタンパ、その製造方法、スタンパ製造用鋳型及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-233503   出願人：日立マクセル株式会社

審査官引用 (2件)

• 反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-296141   出願人：株式会社日立製作所
• 反射防止方法及び反射防止構造並びに反射防止構造を有する反射防止構造体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-175421   出願人：三菱化学株式会社