特許

J-GLOBAL ID：200903000131349772

真空装置及び除害システム

発明者： 木村 健太郎
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (2件)： 佐野 静夫 ,  山田 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-153993
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332339
出願日： 2005年05月26日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】 除害のコストを削減できる真空装置及び除害システムを提供する。 【解決手段】 真空ポンプ11により真空にした処理槽10内に反応ガスを供給してワークの加工を行う加工工程と、処理槽10内にクリーニング用ガスを供給してワークのクリーニングを行うクリーニング工程とを交互に行う真空装置1において、加工工程時に反応ガスを希釈する希釈用ガスを真空ポンプ11に供給する第1、第2供給経路14、15を設け、クリーニング工程時に第1供給経路14の希釈用ガス供給弁14aを閉じて希釈用ガスの供給量を加工工程時よりも少なくした。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

真空ポンプにより真空にされた処理槽内に反応ガスを供給してワークの加工を行う加工工程と、前記処理槽内にクリーニング用ガスを供給してワークのクリーニングを行うクリーニング工程とを行う真空装置において、前記加工工程時に前記反応ガスを希釈する希釈用ガスを前記真空ポンプに供給し、前記クリーニング工程時の前記希釈用ガスの供給量を前記加工工程時よりも少なくしたことを特徴とする真空装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  B01J 3/00 ,  B01J 3/02 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L21/205 ,  B01J3/00 N ,  B01J3/02 M ,  C23C16/44 E ,  H01L21/302 101H

Fターム (9件)：

4K030EA11 ,  5F004AA16 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004DA02 ,  5F045AA08 ,  5F045AC02 ,  5F045BB08 ,  5F045EG01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ガス置換用排気装置とその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-284553   出願人：株式会社荏原製作所

審査官引用 (1件)

• CVD装置の排気ガス処理方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-354054   出願人：日本電気株式会社