研磨方法及び装置、及び薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森岡正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-005511
公開番号（公開出願番号）：特開2000-202768
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：

【要約】【課題】本発明は、磁性体層を被覆して埋め込んだ絶縁層を有する基板表面を、磁性体層が露出するまで研磨して平坦化する際、所定の残膜厚になるように被研磨物を研磨できる研磨方法及び装置、及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】研磨定盤2側面とドレイン14の壁部とで形成される空隙から、スラリの使用済み廃液が流れ落ち、パイプ22を通って分析/制御装置18内の分析系に導かれる。分析系は、研磨に用いられたスラリの廃液の成分をほぼ実時間で分析する。また、分析/制御装置18の制御系は、分析系での分析結果に基づいて研磨終了時点であると判断すると、回転機構12、16に対して回転停止の指令を送出し研磨定盤2及び研磨ヘッド6の回転を停止させる制御を行う。

請求項（抜粋）：

磁性体層を被覆して埋め込んだ絶縁層を有する基板表面を前記磁性体層が露出するまで研磨して、前記基板表面を平坦化する研磨方法であって、研磨の際に用いられた研磨剤の廃液の成分をほぼ実時間で分析し、前記廃液の成分の変化に基づいて前記研磨を終了させることを特徴とする研磨方法。

IPC (2件)：

B24B 37/04 , B24B 49/00

FI (2件)：

B24B 37/04 K , B24B 49/00

Fターム (12件)：

3C034AA13 , 3C034AA17 , 3C034CA30 , 3C034CB03 , 3C034DD20 , 3C058AA07 , 3C058AC02 , 3C058BA09 , 3C058BB01 , 3C058BC02 , 3C058CA04 , 3C058DA16

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平1-289657
薄膜磁気ヘッドの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-086039 出願人：日本ビクター株式会社
特開平4-033336

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