基板上への多重ダイ設計を利用したリソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-102617
公開番号（公開出願番号）：特開2006-293352
出願日： 2006年04月04日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】基板上への多重ダイ設計を利用したリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】露光すべきパターンに対応するパターン・データを記憶する第1のデータ・バッファ10とパターンの一部に対する少なくとも1つの変更に対応するパターン変化データを記憶する第2のデータ・バッファ12とを備え、パターンの少なくとも1つの変化がパターン変化データを使用して基板上の複数の領域のうちの1つに露光される。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、放射ビームを変調する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイと、変調された放射ビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、前記個々に制御可能な複数のエレメントのアレイに制御信号を提供する制御システムと、前記基板上の複数の領域に露光すべきパターンに対応するパターン・データを記憶する第1のデータ・バッファと、前記パターンの一部に対する少なくとも1つの変更に対応するパターン変化データを記憶する第2のデータ・バッファとを備え、前記パターンの少なくとも1つの変化が前記パターン変化データを使用して前記基板上の複数の領域のうちの1つに露光されるリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/20 501 , H01L21/30 529

Fターム (6件)：

2H097AA03 , 2H097GB04 , 2H097LA12 , 5F046BA06 , 5F046BA07 , 5F046CB18

引用特許：

出願人引用 (8件)

パターン描画装置およびパターン描画方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-291440 出願人：ペンタックス株式会社
電子ビーム描画方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-053412 出願人：株式会社日立製作所, キヤノン株式会社
特開昭63-272031

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審査官引用 (10件)

パターン描画装置およびパターン描画方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-291440 出願人：ペンタックス株式会社
電子ビーム描画方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-053412 出願人：株式会社日立製作所, キヤノン株式会社
特開昭63-272031

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