特許

J-GLOBAL ID：200903000186385077

紫外線照射方法及び装置

発明者： 神保 洋介 ,  天野 覺
出願人/特許権者： ホーヤ・ショット株式会社
代理人 (1件)： 遠藤 恭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-249247
公開番号（公開出願番号）：特開2001-217216
出願日： 2000年08月21日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：

【要約】【課題】 エキシマランプを用いた紫外線照射装置の稼動に必要な不活性ガスや冷却水の消費量を削減することによって、そのランニングコストを下げる。【解決手段】 本発明の紫外線照射方法は、光透過窓13を有する密閉筐体12内にエキシマランプ11を備えたランプ装置を用意する工程と、エキシマランプからの紫外線が、被加工面に放射されるように被加工物Wを設置する工程と、被加工物を設置する工程と並行して密閉筐体内に不活性ガスを導入し、該筐体内を該不活性ガスで満たす工程と、エキシマランプ11を点灯し、上記不活性ガスの導入を停止した状態で、紫外線を放射して被加工物の洗浄又は改質を行う工程と、上記洗浄又は改質が終了した後に、密閉筐体内の気体を排出する工程とを備え、上記工程を繰り返すことにより、複数の被加工物を洗浄又は改質する。

請求項（抜粋）：

被加工物の被加工面に対して紫外線を放射してその洗浄又は改質を行うための紫外線照射方法において、(a)光透過窓を有する密閉筐体内に波長175nm以下の紫外線を放射する光源を備えたランプ装置を用意する工程と、(b)上記光透過窓を透過して上記密閉筐体外に至る上記光源からの紫外線が、上記被加工面に放射されるように上記被加工物を設置する工程と、(c)上記被加工物を設置する工程と並行して上記密閉筐体内に不活性ガスを導入し、該筐体内を該不活性ガスで満たす工程と、(d)上記光源を点灯し、上記密閉筐体内への不活性ガスの導入を停止した状態で、上記被加工物の被加工面に紫外線を放射してその洗浄又は改質を行う工程と、(e)上記被加工面の洗浄又は改質が終了した後に、上記密閉筐体内の気体を排出する工程と、を備え、上記工程(b)〜(e)を繰り返すことにより、複数の被加工物を洗浄又は改質する紫外線照射方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 645 ,  B01J 19/12

FI (6件)：

H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 645 A ,  H01L 21/304 645 D ,  B01J 19/12 F

Fターム (11件)：

4G075AA30 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BC10 ,  4G075BD14 ,  4G075CA33 ,  4G075CA63 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 紫外線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-289966   出願人：株式会社芝浦製作所, 株式会社東芝
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-248850   出願人：大日本スクリーン製造株式会社