X線投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-312277
公開番号（公開出願番号）：特開平9-153444
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】スループットを低下させないで、作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供する。【解決手段】 X線をマスク1上に照射する照明光学系、マスク1を保持するマスクステージ11、該マスク1からのX線9を受けてマスク1上に形成されたパターンをウエハー3上に投影結像する投影結像光学系2、及び該ウエハ3を保持するウェハステージ12を備え、投影結像光学系2からのX線9’の収差を測定する収差測定機構5と、収差測定時に前記ウェハステージ12を投影結像光学系2の結像位置から遠ざけて、収差測定機構5を結像位置またはその付近に配置させ、投影露光時に収差測定機構5を結像位置またはその付近から遠ざけて、前記ウェハステージ12を結像位置に配置させる移動機構4と、X線9’の収差を低減または解消する収差補正機構6、7、8と、を設ける。

請求項（抜粋）：

少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク上に照射する照明光学系、該マスクを保持するマスクステージ、該マスクからのX線を受けて該マスク上に形成されたパターンをウエハー上に投影結像する投影結像光学系、及び該ウエハを保持するウェハステージを備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系からのX線の収差を測定する収差測定機構と、前記X線の収差を低減または解消する収差補正機構と、を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G21K 5/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 503 , G21K 5/02 X

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-318163 出願人：株式会社日立製作所
特開昭59-094032
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-237162 出願人：株式会社ニコン

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