特許

J-GLOBAL ID：200903000278419679

感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： 大西 廉伸 ,  佐藤 一夫 ,  千葉 謙治 ,  林 理生 ,  早瀬 留美子 ,  仁木 博一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-354206
公開番号（公開出願番号）：特開平7-199468
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】レジスト材料として好適に用いられる感光性組成物であって、短波長の光源に対して高感度、高解像性であり、断面矩形の微細なレジストパターンを安定して得ることの可能な感光性組成物を提供する。【構成】酸により分解してアルカリ溶液に可溶となる化合物と、光の照射により酸を発生する化合物とを含有する感光性組成物であって、前記酸により分解してアルカリ溶液に可溶となる化合物は、分子の極性が小さくアルカリ溶解速度が遅い成分と、分子の極性が大きくアルカリ溶解速度が速い成分とを含有する感光性組成物である。

請求項（抜粋）：

酸により分解してアルカリ溶液に可溶となる化合物と、光の照射により酸を発生する化合物とを含有する感光性組成物であって、前記酸により分解してアルカリ溶液に可溶となる化合物は、分子の極性が小さくアルカリ溶解速度が遅い成分と、分子の極性が大きくアルカリ溶解速度が速い成分とを含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-060955   出願人：日本電信電話株式会社
• 特開平4-088348
  
• パタン形成材料およびパタン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-053727   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社