特許
J-GLOBAL ID:200903000313601086

有機EL表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 須藤 克彦 ,  岡田 敬
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-259649
公開番号(公開出願番号):特開2004-103268
出願日: 2002年09月05日
公開日(公表日): 2004年04月02日
要約:
【課題】有機EL材料層の膜厚を均一化すること、及びそのパターン形成の精度を高める。【解決手段】真空チャンバー内に、絶縁性基板100を配置し、この絶縁性基板100に近接して対向するように、シャドウマスク101を配置する。シャドウマスク101には、各有機EL材料層のパターンに対応して複数の開口部102が形成されている。シャドウマスク101に対向して、上述した蒸着ビーム発生源50を配置する。蒸着ビーム発生源50の貯留部51に収納され溶融状態の有機EL材料が蒸発し、蒸着ビーム通過用筒体52を通過して、指向性の高められた蒸着ビームとなってシャドウマスク101の方向へ放射される。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
真空チャンバー内に配置された被蒸着基板の表面に近接して蒸着マスクを配置し、蒸着ビーム発生源から有機EL材料を含む蒸着ビームを発生させ、この蒸着ビームを前記蒸着マスクの開口部に通し、前記基板の表面の所定領域に有機EL材料を蒸着する工程を含み、 前記蒸着ビームは前記蒸着ビーム発生源に設けられた複数の蒸着ビーム通過用筒体を通して放射されることを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
IPC (3件):
H05B33/10 ,  C23C14/24 ,  H05B33/14
FI (3件):
H05B33/10 ,  C23C14/24 G ,  H05B33/14 A
Fターム (9件):
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB12 ,  4K029HA01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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