特許
J-GLOBAL ID：200903000371469970

染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター

発明者：
鈴木 正睦

鈴木 正睦 について

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保坂 和義

保坂 和義 について

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周藤 真理子

周藤 真理子 について


出願人/特許権者：
日産化学工業株式会社

日産化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-035537
公開番号（公開出願番号）：特開2005-275380
出願日： 2005年02月14日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 本願発明はカラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めることにより高いスペクトル再現性、高い耐光性、耐熱性を示し、且つ、5μm以下の高い解像性を持ちさらに現像残渣のないカラーレジスト組成物を提供する。【解決手段】 樹脂(A)、光酸発生剤又は光塩基発生剤(B)、架橋性化合物(C)、及び全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を40〜95重量%の割合で含有する染料混合物(D)を含有するレジスト組成物。樹脂(A)が、ポリビニルフェノール又はその共重合体である。400〜700nmの波長領域において、70%以上の透過率を示す領域と10%以下の透過率を示す領域とを少なくとも有する光学特性を示す。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
樹脂(A)、光酸発生剤又は光塩基発生剤(B)、架橋性化合物(C)、及び全染料中にスルホン酸アミノエステル又はスルホン酸アンモニウム塩の構造を有する染料を40〜95重量%の割合で含有する染料混合物(D)を含有するレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335
FI (6件)：
G03F7/004 505 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 503B ,  G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505
Fターム (26件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CC17 ,  2H048BA02 ,  2H048BA45 ,  2H048BA47 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H048CA04 ,  2H048CA14 ,  2H048CA19 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB06 ,  2H091FC05 ,  2H091FC12 ,  2H091LA15 ,  2H091LA16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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