特許

J-GLOBAL ID：200903000389752300

レーザー照射装置及びレーザー処理方法

発明者： 田中 幸一郎
出願人/特許権者： 株式会社半導体エネルギー研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-115275
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294288
出願日： 1997年04月17日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】 線状のビーム加工したレーザー光の照射むらの問題を解決する。【解決手段】 レーザー光を分割するシリンドリカルレンズ群と、先に分割されたレーザー光をれを再結合させるシリンドリカルレンズとを備えたレーザー照射装置において、シリンドリカルレンズを角が90度でない平行四辺形の形状を有したものとする。こうすることで、レーザー光の中で特に干渉が強くなる部分を分散させることができ、照射むらを抑制することができる。

請求項（抜粋）：

光を分割する役割を果たす平行四辺形状シリンドリカルレンズ群と、前記分割された光を再結合させる役割を果たす平行四辺形状シリンドリカルレンズとを含む光学系を有するレーザー照射装置。

IPC (3件)：

H01L 21/268 ,  H01L 21/20 ,  H01S 3/00

FI (3件)：

H01L 21/268 J ,  H01L 21/20 ,  H01S 3/00 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レーザビーム均質化用光学装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-508983   出願人：ソシエテ・ドゥ・プロデュクシオン・エ・ドゥ・ルシェルシェ・アプリケ
• レーザー照射装置およびレーザー照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-094605   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• レーザー照射装置およびレーザー照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-061781   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所