特許
J-GLOBAL ID：200903049026145699
レーザー照射装置およびレーザー照射方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-061781
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242073
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】 線状のレーザー光を走査して照射した場合における照射むらを抑制する。【解決手段】 線状のレーザーパルスを斜めに走査して照射する。こうした場合、線状レーザービームの長手方向に周期的に存在するピークが重ならずに照射が行われるので、照射むらを抑制することができる。
請求項（抜粋）：
レーザビームを分割、再結合させて形成するレーザービーム発生手段と、前記分割された方向に直角な方向に対して、所定の角度θ(θ≠0°)を有した方向にレーザービームを走査して照射する手段と、を有し、前記レーザービームは、パルス発振型であり、前記レーザービームのパルスは、被照射領域において、一部が重ねられて照射されることを特徴とするレーザ照射装置。
引用特許：
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