特許
J-GLOBAL ID：200903000419457863
インク・ジェット機構を用いた薄膜形成装置およびインク・ジェット機構を用いた薄膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155127
公開番号（公開出願番号）：特開2000-079356
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】半導体基板への薄膜の形成において、膜材料の無駄を省き利用効率を高め、しかも形成される膜の膜厚のばらつきが半導体ウエハ上のパターンによって決定されることのない薄膜形成を実現する。【解決手段】液体材料収納部12と駆動部14とノズル部とからなるインク・ジェット機構を用いてノズルから噴射される液体材料を半導体基板42の表面に供給する。インク・ジェット方式で膜材料(液体材料)を供給することにより、半導体基板42上の所望の部分にのみ膜材料を供給することができ、不要な部分への膜材料の供給が防止されるとともに、膜厚のばらつきが半導体ウエハ上のパターンに依存することがなくなる。
請求項（抜粋）：
列状に形成された複数のノズルの少なくとも一列を有する板部材と、液体材料を収納する収納室と、収納室から供給された液体材料を被圧のため保持する被圧室と、ノズルに連通する連通孔とを有し、上部が前記板部材によって密閉されている液体材料収納部と、被圧室に圧力を加えて被圧室内の液体材料を連通孔を介してノズルから噴射させる駆動部と、を具備して成ることを特徴とするインク・ジェット機構を用いた薄膜形成装置。
IPC (3件)：
B05B 1/14
, H01L 21/31
, H01L 21/316
B05B 1/14 Z
, H01L 21/31 A
, H01L 21/316 U
