特許
J-GLOBAL ID：200903000428468037

エレクトロスプレーをフィードバック制御するための方法と装置

発明者：
バラスコビク,ゲイリー エー.

バラスコビク,ゲイリー エー. について

, 
リー,マイク エス.

リー,マイク エス. について


出願人/特許権者：
ニューオブジェクティブ,インク.

ニューオブジェクティブ,インク. について


代理人 (4件)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  島田 哲郎 ,  西山 雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-591790
公開番号（公開出願番号）：特表2004-534354
出願日： 2002年05月24日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：
エレクトロスプレーノズルから出る流体の動的形状または静的形状をモニターし制御するための光学システムを用いた、エレクトロスプレーノズルのためのフィードバック制御システム。
請求項（抜粋）：
電圧源に接続されていて先端部が対向電極から離れているエレクトロスプレーノズルのフィードバック制御システムであって、 フォーカシング用光学系を備えていて、上記エレクトロスプレーノズルから出る円錐状、ジェット状、プルーム状の液体のうちの1つ以上と交差するように光をフォーカスさせる光源と、 上記光源からの光が液体と交差した結果として上記エレクトロスプレーノズルから放出される液体によって反射または放射される散乱光と透過光のいずれか、またはその両方のパターンを検出できるように配置されていて、その光パターンに応答して光電子信号を発生させる、個別の構成、あるいはアレーの構成になった1つ以上の光検出器と、 上記光電子信号を電子信号に変換する電子的検出、増幅システムと、 上記電子信号を解釈する第1のコンピュータシステムまたはマイクロプロセッサシステムと、 上記第1のコンピュータシステムまたはマイクロプロセッサシステムに接続されており、上記エレクトロスプレーノズルと対向電極のいずれか、またはその両方を移動させることによってエレクトロスプレーノズルと対向電極の距離を調節するための制御装置に対する信号、あるいは、エレクトロスプレーノズルに印加する電圧を変化させて対向電極または質量分析器の入口とは異なった値にするための制御装置に対する信号を発生させる第2のコンピュータシステムまたはマイクロプロセッサシステムとを備えるフィードバック制御システム。
IPC (4件)：
H01J49/10 ,  B05B5/08 ,  G01N27/62 ,  H01J49/04
FI (4件)：
H01J49/10 ,  B05B5/08 B ,  G01N27/62 F ,  H01J49/04
Fターム (14件)：
4F034AA10 ,  4F034CA11 ,  4F034DA05 ,  4F034DA26 ,  5C038EE02 ,  5C038EF04 ,  5C038EF31 ,  5C038EF33 ,  5C038GG08 ,  5C038GH05 ,  5C038GH09 ,  5C038GH10 ,  5C038GH11 ,  5C038GH15
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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