特許

J-GLOBAL ID：200903000447507248

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 金子 祐士 ,  上村 聡 ,  渋谷 明規
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-135839
公開番号（公開出願番号）：特開2009-009114
出願日： 2008年05月23日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：

【課題】金属不純物の含有量が少なく、波長193nmに於ける透過率、溶剤溶解性に優れた樹脂を含有し、且つ感度、露光ラチチュード、パターン形状、経時安定性が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)非金属開始剤の存在下で同一繰り返し単位のみを重合させる工程を経て製造され、同じ繰り返し単位から構成されるブロック単位を少なくとも1つ有し、且つ膜厚160nmでの波長193nmに於ける樹脂単独の透過率が80%以上である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (B)非金属開始剤の存在下で同一繰り返し単位のみを重合させる工程を経て製造され、同じ繰り返し単位から構成されるブロック単位を少なくとも1つ有し、且つ膜厚160nmでの波長193nmに於ける樹脂単独の透過率が80%以上である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  C08F 293/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  C08F293/00 ,  H01L21/30 502R

Fターム (25件)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  4J026HA11 ,  4J026HA32 ,  4J026HA38 ,  4J026HA39 ,  4J026HA48 ,  4J026HB11 ,  4J026HC11 ,  4J026HE01

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ラクトン環を側鎖に有する(メタ)アクリル酸重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-186118   出願人：日本曹達株式会社
• 化学増幅型フォトレジスト用ポリマー及びフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-041297   出願人：住友ベークライト株式会社
• フォトレジスト用グラフトポリマー及び化学増幅型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-073857   出願人：住友ベークライト株式会社
• フォトレジスト製造用の感光性組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-502523   出願人：ロディア・シミ