特許
J-GLOBAL ID：200903000521390412

カラーフィルタの製造方法

発明者：
山本 学

山本 学 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-303331
公開番号（公開出願番号）：特開2004-138811
出願日： 2002年10月17日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：
【課題】本発明は、容易な工程で高精細なブラックマトリックス等の着色部の形成が可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、撥水性かつ親インキ性であり、さらにエネルギー照射に伴う光触媒の作用により水との接触角が低下するように変化する濡れ性変化層を有するカラーフィルタ形成用基板と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板とを、前記濡れ性変化層および前記光触媒含有層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギーを照射し、前記カラーフィルタ形成用基板上に親水性領域および撥水性領域からなるパターンを形成するパターン形成工程と、前記親水性領域上に湿し水を塗布する湿し水塗布工程と、前記撥水性領域上に着色部を形成する着色部形成工程と、前記湿し水を乾燥させる湿し水乾燥工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
撥水性かつ親インキ性であり、さらにエネルギー照射に伴う光触媒の作用により水との接触角が低下するように変化する濡れ性変化層を有するカラーフィルタ形成用基板と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板とを、前記濡れ性変化層および前記光触媒含有層が200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、エネルギーを照射し、前記カラーフィルタ用基板上に親水性領域および撥水性領域からなるパターンを形成するパターン形成工程と、 前記親水性領域上に湿し水を塗布する湿し水塗布工程と、 前記撥水性領域上に着色部を形成する着色部形成工程と、 前記湿し水を乾燥させる湿し水乾燥工程と を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
IPC (3件)：
G02B5/20 ,  G02B5/00 ,  G02F1/1335
FI (3件)：
G02B5/20 101 ,  G02B5/00 B ,  G02F1/1335 505
Fターム (19件)：
2H042AA09 ,  2H042AA26 ,  2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA56 ,  2H048BA58 ,  2H048BB01 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02X ,  2H091FA02Y ,  2H091FA02Z ,  2H091FA35X ,  2H091FA35Y ,  2H091FA35Z ,  2H091FC23 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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