特許

J-GLOBAL ID：200903000572625929

静電チャック用シールド

発明者： ケント ロスマン ,  ブライアン ルー ,  フレッド シー. レデカー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-157015
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064989
出願日： 1997年06月13日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】 ガス生成物の堆積が抑制される静電チャック用シールドを提供すること。【解決手段】 本発明の静電チャック(4)用のシールド(5)は、チャックを取り囲むに第1シールド部材(60)と、第1シールド部材の上方で支持される第2シールド部材(62)とを含む。第2シールド部材は、ウェハを囲む上面を有し、処理チャンバ内でガス堆積をうける。シールドを2つの部材に分割することは、処理中に第2シールド部材の温度を上昇させ、それによって露出面への堆積率を低下させ、第2シールド部材の熱質量に対する露出面の割合を大きくする。加えて、シールドのクリーニング率ないしは堆積物除去率はその温度の関数であるため、第2シールド部材のクリーニング率が向上する。

請求項（抜粋）：

ウェハを受ける実質的に平坦な面を有する絶縁要素と、前記実質的に平坦な面と対向する前記絶縁要素の表面に隣接する導電要素と、前記導電要素を少なくとも部分的に取り囲む第1シールド部材と、前記第1シールド部材より上方に支持され、少なくとも部分的に前記絶縁要素を取り囲むように配置された別個独立の第2シールド部材と、を備えるウェハ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15

FI (2件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D

引用特許：

出願人引用 (3件)

• エッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-282542   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-033645   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-218346   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝, 東京エレクトロン山梨株式会社

審査官引用 (2件)

• エッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-282542   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-033645   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝