基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-009832
公開番号（公開出願番号）：特開2006-310759
出願日： 2006年01月18日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】基板を均一かつ効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】ドライエア供給ダクト62およびドライエア排気ダクト63は、処理槽4を挟んで対向するように設けられている。ドライエア供給ダクト62の内部では、ドライエア供給ダクト62の端面から所定の長さで水平方向に延びるように複数の通気ガイド62aが設けられ、複数の通気ガイド62aにより複数の通気路62rが形成されている。ドライエア供給ダクト62の端面には、複数の通気路62rのうちの一部を塞ぐように仕切板62bが取り付けられている。ドライエア供給ダクト62内においても、複数の通気路62rのうちの一部を塞ぐように仕切板62cが取り付けられている。仕切板62b,62cは、ともにドライエア供給ダクト62の上側に位置する。それにより、ドライエア供給ダクト62の下側にドライエア噴射用開口62kが形成されている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内の処理液中と前記処理槽の上方位置との間で基板を昇降させる基板昇降手段と、前記基板昇降手段により前記処理槽から引き上げられる基板に気体を供給する気体供給手段とを備え、前記気体供給手段は、前記処理槽の一側方に配置され、前記処理槽の上端に沿って前記一側方から前記処理槽の他側方へ気体を供給する気体供給ダクトと、前記気体供給ダクトに気体を供給する気体供給系とを備え、前記気体供給ダクトは、前記気体供給系により供給される気体が流入する流入空間と、略水平方向に延びるとともに前記処理槽側に気体を流出する気体流出口とを有し、前記気体流出口は、前記気体供給ダクトから前記処理槽に向かう気体の流れの断面が上下方向において前記流入空間の上端から前記流入空間の下端までの領域よりも小さくなるように設けられることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/304 651L , H01L21/304 651G , H01L21/30 572B

Fターム (2件)：

5F046MA01 , 5F046MA07

引用特許：

出願人引用 (8件)

基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-162181 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-022427
特開昭62-106247

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審査官引用 (7件)

特開平3-022427
特開昭62-106247
特開平4-011728

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