特許
J-GLOBAL ID：200903000671753980
加熱装置の設定方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井島 藤治
, 鮫島 信重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-245313
公開番号（公開出願番号）：特開2007-059292
出願日： 2005年08月26日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：
【課題】 本発明は加熱装置の設計方法及び最適運転化方法に関し、目標となる温度分布を先に決定して、最初に流動解析を1回行なうだけで、後は電磁場解析のみで理想的な発熱分布に近いコイルレイアウトと電圧設定を行なえる加熱装置の設計方法を提供することを目的としている。【解決手段】 誘導加熱により中空状の被加熱体を加熱し、該被加熱体の中空内に流体が存在する加熱装置を設計するに際し、被加熱体の内表面の目標となる温度分布を設定する工程1と、前記温度分布を1つの条件として流動解析を行ない、熱流束分布を算出する工程2と、前記熱流束分布のプロファイルを発熱密度分布のプロファイルに変換する工程3と、電磁場解析により発熱密度分布を算出する工程4と、前記工程3で求めた発熱密度分布と前記工程4で算出した発熱密度分布とを比較し、比較結果に応じて工程4の条件を変更し、誘導加熱の条件決定を行なう工程5とを含んで構成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
誘導加熱により中空状の被加熱体を加熱し、該被加熱体の中空内に流体が存在する加熱装置を設計するに際し、被加熱体の内表面の目標となる温度分布を設定する工程1と、
前記温度分布を1つの条件として流動解析を行ない、熱流束分布を算出する工程2と、
前記熱流束分布のプロファイルを発熱密度分布のプロファイルに変換する工程3と、
電磁場解析により発熱密度分布を算出する工程4と、
前記工程3で求めた発熱密度分布と前記工程4で算出した発熱密度分布とを比較し、比較結果に応じて工程4の条件を変更し、誘導加熱の条件決定を行なう工程5と、
を含んで構成されることを特徴とする加熱装置の設定方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H05B6/10 301
, G06F17/50 680Z
, H05B6/10 311
, G06F17/50 612H
3K059AA08
, 3K059AB27
, 3K059AD03
, 3K059AD04
, 3K059AD07
, 3K059AD37
, 5B046AA07
, 5B046JA07
