水素の製造方法及び製造装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：田中光雄 , 山田卓二 , 西下正石
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-099032
公開番号（公開出願番号）：特開2009-184919
出願日： 2009年04月15日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

【課題】操作が簡単で安全性が高く、エネルギー効率も高い水素の製造方法と製造装置を提供する。【解決手段】水素含有化合物4の液体を収容する容器3にレーザー12が透過できる材料からなるレーザー透過部を設け、該レーザー透過部を透過して、前記水素含有化合物4の液体に、パルス幅が10-12秒以下のパルスレーザー12を照射する。該水素含有化合物4は炭素数1〜4のアルコールからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含むもの。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水素含有化合物の液体に、パルスレーザーを照射する工程を有する水素の製造方法であって、該パルスレーザーのパルス幅が10-12秒以下であり、該水素含有化合物が炭素数1〜4のアルコールからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含むものである水素の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 3/22

FI (1件)：

C01B3/22 A

Fターム (3件)：

4G140DA01 , 4G140DB04 , 4G140DC01

引用特許：

審査官引用 (5件)

水素生成装置及び砕氷装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-132327 出願人：浜松ホトニクス株式会社
水素・電気エネルギ発生システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-048647 出願人：財団法人レーザー技術総合研究所
低温プラズマによる水素の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-153165 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所

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引用文献：

審査官引用 (3件)

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