特許
J-GLOBAL ID:200903016836388649

低温プラズマによる水素の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-153165
公開番号(公開出願番号):特開2002-338203
出願日: 2001年05月22日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 炭化水素類、メタノールのようなアルコール類および水などの窒素不含水素含有化合物を穏和な条件下で効率よく分解し、水素を高選択率・高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】 窒素不含水素含有化合物を低温プラズマにより分解して水素を製造する。
請求項(抜粋):
水素含有化合物(但し、窒素含有化合物を除く)を低温プラズマにより分解することを特徴とする水素の製造方法。
IPC (3件):
C01B 3/24 ,  C01B 3/04 ,  C01B 3/22
FI (3件):
C01B 3/24 ,  C01B 3/04 R ,  C01B 3/22 A
Fターム (6件):
4G040DA01 ,  4G040DA03 ,  4G040DB04 ,  4G140DA01 ,  4G140DA03 ,  4G140DB04
引用特許:
審査官引用 (7件)
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引用文献:
審査官引用 (2件)
  • 静電気学会講演論文集, 199809, p.9-12
  • High Energy Chemistry, 1999, vol.33,no.6, p.404-408

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