特許
J-GLOBAL ID:200903000822639327
電解加工方法及び装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
渡邉 勇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-179340
公開番号(公開出願番号):特開2002-292523
出願日: 2001年06月13日
公開日(公表日): 2002年10月08日
要約:
【要約】【課題】 電解液として超純水を使用し、しかもアルミニウムや鉄等の材料の除去加工を効率的に行うことができるようにした電解加工方法及び装置を提供する。【解決手段】 超純水12中に、陽極とした被加工物28と陰極24とを所定の間隔を置いて配置し、被加工物28と陰極24との間に強塩基性アニオン交換能を付与した触媒32を配置し、被加工物28と陰極24との間に電圧を印加しつつ被加工物28と触媒32を相対運動させる。
請求項(抜粋):
超純水中に、陽極とした被加工物と陰極とを所定の間隔を置いて配置し、この被加工物と陰極との間に強塩基性アニオン交換能を付与した触媒を配置し、被加工物と陰極との間に電圧を印加しつつ該被加工物と前記触媒を相対運動させることを特徴とする電解加工方法。
IPC (9件):
B23H 3/04
, B01J 47/12
, B23H 3/08
, C25D 11/06
, C25D 11/34 301
, C25D 11/34 302
, C25D 17/00
, C25F 3/00
, C25F 7/00
FI (9件):
B23H 3/04 A
, B01J 47/12 G
, B23H 3/08
, C25D 11/06 Z
, C25D 11/34 301
, C25D 11/34 302
, C25D 17/00 A
, C25F 3/00 C
, C25F 7/00 J
Fターム (5件):
3C059AA02
, 3C059EA02
, 3C059EA08
, 3C059EB00
, 3C059EC02
引用特許:
前のページに戻る