特許

J-GLOBAL ID：200903000836791148

高周波誘導結合プラズマ源および高周波誘導結合プラズマ装置

発明者： 上田 雅弘 ,  鈴木 正康
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-322179
公開番号（公開出願番号）：特開2004-158272
出願日： 2002年11月06日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】コイル径を抑えつつより大きな外径を有するプラズマを形成することができる高周波誘導結合プラズマ源の提供。【解決手段】プラズマ生成チャンバ2の端面に、プラズマ生成チャンバ2内に突出する突出部3を設ける。突出部3に形成された凹部には、交流磁場を形成する励起コイル4が納められる。突出部3は絶縁体で形成されているため、プラズマP1は突出部3の内側領域に侵入することはできず、突出部3とプラズマ生成チャンバ2との間にリング状のプラズマ領域が形成される。そのため、励起コイル4の外径よりも大きなプラズマ領域を有するプラズマ1を形成することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

励起コイルにより形成した交流磁場をプラズマ生成室内に導入し、そのプラズマ生成室内にプラズマを生成するプラズマ源において、 前記プラズマ生成室内に突出し、前記プラズマ生成室内部と外部とを隔てる電気絶縁性隔壁を設け、 前記プラズマ生成室内に突出した前記電気絶縁性隔壁を囲むリング状プラズマが形成されるように、前記電気絶縁性隔壁の外側凹部に前記励起コイルを配設たことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ源。

IPC (8件)：

H01J27/16 ,  B01J19/08 ,  C23C14/46 ,  C23C16/507 ,  H01J37/08 ,  H01J37/305 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

FI (8件)：

H01J27/16 ,  B01J19/08 H ,  C23C14/46 B ,  C23C16/507 ,  H01J37/08 ,  H01J37/305 A ,  H05H1/46 L ,  H01L21/302 101C

Fターム (34件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC01 ,  4G075BC02 ,  4G075BC06 ,  4G075CA25 ,  4G075CA42 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075CA65 ,  4G075EA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30 ,  4G075EE02 ,  4G075FA01 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15 ,  4K029DC37 ,  4K029DE02 ,  4K030FA04 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46 ,  5C030DD01 ,  5C030DE01 ,  5C030DE07 ,  5C030DG07 ,  5C034BB09 ,  5F004BA11 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13 ,  5F004BD04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-218032   出願人：国際電気株式会社
• 特開昭63-066826
  
• プラズマ処理用の大規模な誘導プラズマを発生させる方法及び装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平11-521032   出願人：ユーロピアンコミュニティ
• 特開昭63-066826