特許
J-GLOBAL ID：200903000938062787
研磨布および平面研磨加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-243620
公開番号（公開出願番号）：特開2001-062704
出願日： 1999年08月30日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：
【要約】【課題】ワークに対する研磨加工性能,研磨精度の向上化を図り、特にコロイド状研磨液と組合せて使用することによりその特性を効果的に発揮できるように改良した研磨布,および平面研磨加工方法を提供する。【解決手段】上下一対の回転式定盤1,2の内面に研磨布5を被着して被加工ワーク4を上下から挟み、ワークと研磨布との間に研磨液6を滴下供給してワークの研磨加工を行う平面研磨装置等に適用する研磨布であり、該研磨布がベス層5aと該ベース層の上に積層した軟質プラスチックフォームで作られたシート状の表面層5bからなるものにおいて、表面層5aを、その表面が非発泡のスキン層で覆われ、かつセル(気泡)5b-1を表面に開口させずに層内に内包した独立気泡フォームで形成し、研磨液としてコロイダルシリカを砥粒としたコロイド状研磨液と組合せてワークの平面研磨加工を行う。
請求項（抜粋）：
ベース層と該ベース層の上に積層した軟質プラスチックフォームで作られたシート状の表面層とからなる研磨布において、前記表面層を、その表面がスキン層で覆われ、セルを開口させずに層内に内包した独立気泡フォームで形成したことを特徴とする研磨布。
IPC (3件)：
B24B 37/00
, B24B 29/00
, G11B 5/84
B24B 37/00 C
, B24B 29/00 N
, G11B 5/84 A
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AC04
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA02
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112GA12
, 5D112GA26
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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