特許

J-GLOBAL ID：200903000949966114

光学異方性材料の製造方法

発明者： 施 澤民 ,  赤松 正 ,  佐藤 道夫 ,  花田 常雄
出願人/特許権者： ソニーケミカル株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人田治米国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-069146
公開番号（公開出願番号）：特開2005-258046
出願日： 2004年03月11日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：

【課題】 光学異方性材料を製造する際に、基板上に、良好な密着性で且つ配向ムラなく光学異方性液晶層を形成する。【解決手段】 基板上に光学異方性液晶層が形成されてなる光学異方性材料は、基板の表面をラビング処理し、そのラビング処理面を、アルコキシシラン化合物の加水分解物で表面処理し、その表面処理面に重合性ネマチック液晶組成物を塗工し、塗工した重合性液晶組成物を配向処理し、その配向状態を維持しながら重合性液晶組成物を硬化処理することにより光学異方性液晶層を形成することにより製造できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板上に光学異方性液晶層が形成されてなる光学異方性材料の製造方法であって、基板の表面をラビング処理し、そのラビング処理面を、アルコキシシラン化合物の加水分解物で表面処理し、その表面処理面に重合性ネマチック液晶組成物を塗工し、塗工した重合性液晶組成物を配向処理し、その配向状態を維持しながら重合性液晶組成物を硬化処理することにより光学異方性液晶層を形成する光学異方性材料の製造方法。

IPC (4件)：

G02B5/30 ,  B32B7/02 ,  B32B31/00 ,  G02F1/13363

FI (4件)：

G02B5/30 ,  B32B7/02 103 ,  B32B31/00 ,  G02F1/13363

Fターム (30件)：

2H049BA02 ,  2H049BA04 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BB49 ,  2H049BB51 ,  2H049BB62 ,  2H049BC02 ,  2H049BC05 ,  2H049BC10 ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC12 ,  2H091FC23 ,  2H091GA06 ,  2H091LA30 ,  4F100AG00A ,  4F100AH06A ,  4F100AJ06A ,  4F100AS00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100EH46A ,  4F100EH46B ,  4F100EJ08B ,  4F100EJ64A ,  4F100JN30B

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 複屈折板及び液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-154055   出願人：オプトレックス株式会社

審査官引用 (2件)

• 液晶フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-230694   出願人：日石三菱株式会社
• 特開平4-174416