ポリシロキサン

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-300517
公開番号（公開出願番号）：特開2002-194085
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】【課題】ドライエッチング耐性に優れ、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度、現像性等のレジストとしての基本物性にも優れたレジスト材料の樹脂成分等として有用な新規ポリシロキサンを提供する。【解決手段】下記一般式(1)に示す構造単位(I)および/または構造単位(II)を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が500〜1,000,000のポリシロキサン。【化1】〔一般式(1)において、各Rは相互に独立して水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Xは水素原子または1価の酸解離性基を示し、R''は水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基、炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示し、nは0〜3の整数である。〕

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)に示す構造単位(I)および/または構造単位(II)を有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定したポリスチレン換算重量平均分子量が500〜1,000,000のポリシロキサン。【化1】〔一般式(1)において、各Rは相互に独立して水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Xは水素原子または1価の酸解離性基を示し、R''は水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基、炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示し、nは0〜3の整数であり、式中の各ケイ素原子は最上位にあるビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプタン環の2-位または3-位に結合している。〕

IPC (3件)：

C08G 77/26 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (3件)：

C08G 77/26 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (25件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J035BA04 , 4J035BA14 , 4J035CA01N , 4J035CA022 , 4J035CA152 , 4J035CA192 , 4J035LA05 , 4J035LB16

引用特許：

審査官引用 (2件)

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-159834 出願人：信越化学工業株式会社
ケイ素含有脂環式化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-318752 出願人：ジェイエスアール株式会社

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