水系処理剤濃度の自動測定装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邊薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-189181
公開番号（公開出願番号）：特開2005-024357
出願日： 2003年07月01日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】水系の処理剤濃度を連続的に高精度で測定できる水系処理剤濃度の自動測定装置を提供すること。【解決手段】ボイラ水系、冷却水系、集塵水系、紙パルプ工場の水系、製鉄工場の水系等を構成する水路1から測定対象となる試料水S1を導入経路401に取り込み、該導入経路401を介して光学測定部404へ連続的に又は一定時間通水させる手段と、試料水S1に光学測定用の試薬R(R1,R2)を添加する手段と、この試薬R(R1,R2)が添加された測定用の試料水S2中に含まれる処理剤Cの濃度を前記光学測定部404において自動測定する手段と、を少なくとも備え、導入経路401には、前記試料水S1と試薬R(R1,R2)とを混合するための静的混合機構M(M1,M2)が設けられた水系処理剤濃度の自動測定装置4を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水系中の液体に添加された処理剤濃度を光学的に自動測定する装置であって、水系から測定対象となる試料水を導入経路に取り込み、該導入経路を介して光学測定部へ連続的に又は一定時間通水させる手段と、前記試料水に光学測定用の試薬を添加する手段と、前記試薬が添加された試料水中に含まれる処理剤濃度を前記光学測定部において自動測定する手段と、を少なくとも備え、前記導入経路には、前記試料水と前記試薬とを混合するための静的混合手段が設けられたことを特徴する水系処理剤濃度の自動測定装置。

IPC (9件)：

G01N31/00 , C02F1/00 , C02F5/00 , G01N21/59 , G01N21/77 , G01N21/78 , G01N21/82 , G01N33/18 , G01N35/02

FI (9件)：

G01N31/00 V , C02F1/00 V , C02F5/00 610G , G01N21/59 Z , G01N21/77 B , G01N21/78 Z , G01N21/82 , G01N33/18 C , G01N35/02 D

Fターム (41件)：

2G042AA01 , 2G042BE05 , 2G042CA02 , 2G042CB03 , 2G042DA01 , 2G042DA06 , 2G042DA08 , 2G042EA02 , 2G042EA13 , 2G042FA06 , 2G042FA11 , 2G042FB02 , 2G042GA05 , 2G054AA02 , 2G054AB10 , 2G054BA01 , 2G054BB10 , 2G054CA10 , 2G054CE01 , 2G054CE02 , 2G054EA04 , 2G054EA05 , 2G054EA09 , 2G054EB12 , 2G054JA01 , 2G054JA06 , 2G054JA08 , 2G058AA01 , 2G058DA07 , 2G058EA05 , 2G058FA08 , 2G058GA06 , 2G059AA01 , 2G059BB05 , 2G059DD03 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059FF12 , 2G059GG10 , 2G059KK01 , 2G059NN07

引用特許：

審査官引用 (8件)

水系処理剤濃度の自動測定装置と自動測定方法並びに制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-032627 出願人：栗田工業株式会社
特開平4-265196
特開平2-061560

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