特許

J-GLOBAL ID：200903001079285090

高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料およびその製造方法

発明者： 山形 茂 ,  大橋 宣夫 ,  栗山 満葉
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-145938
公開番号（公開出願番号）：特開平10-324538
出願日： 1997年05月20日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：

【要約】【課題】本発明は、ArFエキシマレーザやXe2エキシマランプ等の高出力真空紫外線に対しても透過率に優れるとともに耐久性にも優れた合成シリカガラス光学材料及びその製造方法を提供すること。【解決手段】超高純度の合成シリカガラスからなる高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料であって、OH基濃度が5〜300wtppm、OH基濃度変動幅(ΔOH/cm)が10wtppm以下、水素分子濃度が1×1017〜1×1019分子/cm3、水素分子濃度変動幅(ΔH2/cm)が1×1017分子/cm3以下、塩素元素含有量が50wtppm以下であることを特徴とする高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料及びその製造方法。

請求項（抜粋）：

超高純度の合成シリカガラスからなる波長165〜195nmの高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料において、OH基濃度が5〜300wtppm、OH基濃度変動幅(ΔOH/cm)が10wtppm以下、水素分子濃度が1×1017〜1×1019分子/cm3、水素分子濃度変動幅(ΔH2/cm)が1×1017分子/cm3以下、塩素元素含有量が50wtppm以下であることを特徴とする高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料。

IPC (5件)：

C03C 3/06 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G02B 1/02 ,  H01S 3/00

FI (5件)：

C03C 3/06 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G02B 1/02 ,  H01S 3/00 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 紫外線照射による緻密化が抑制された石英ガラス部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-164039   出願人：株式会社ニコン
• 紫外線レーザ用石英ガラス光学部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-306438   出願人：信越石英株式会社