特許
J-GLOBAL ID：200903001173892332
位相シフトマスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-214002
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168343
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトマスクとしての性能を低下させることなく通常の欠陥検査装置を用いて、位相シフト部に発生した欠陥を容易に発見することができる構造を有する位相シフトマスクおよびその製造方法を提供する。【構成】 この発明の位相シフトマスクは、露光光を透過する石英基板1と、この石英基板1の主表面上に所定の透過率を有する透過膜10と、この透過膜10の上に、透過膜10が露出する光透過部7と、透過膜10とともに露光光の位相角を180°変換し、かつ、透過率が4〜20%となる略均一な材料からなる単層膜4とを備えている。
請求項（抜粋）：
露光光を透過する基板と、前記基板の上の所定の領域に形成され、透過する前記露光光の位相角を略180°変換し、かつ、前記露光光の透過率が4〜20%となる位相シフタ部と、を備え、前記位相シフタ部は、略均一な材料からなる単層膜と、前記単層膜との組合せにおいて、透過率の波長依存性が小さい透過膜と、を含む、位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
