ポジ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-346121
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149800
出願日： 2001年11月12日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A1)下記一般式(1)で表される構造を有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式中、Wは、-CH2-、-CYH-、-NH-を表す。Yは、アリール基、又はアルキル基を表す。R1a〜R8aは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、チオール基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、1級アミノ基、2級又は3級アミノ基、アルキル基、又はアルコキシル基より選択された基である。

IPC (5件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , C07C 25/18 , C07C381/12 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , C07C 25/18 , C07C381/12 , H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC03 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CC20 , 2H025FA10 , 4H006AA03 , 4H006AB76

引用特許：

審査官引用 (4件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-080666 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型放射感応性混合物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-025753 出願人：ヘキストジャパン株式会社
特開昭60-175046

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