特許
J-GLOBAL ID：200903024636819079

新規オニウム塩およびそれを含有する感放射性樹脂組成物

発明者：
鈴木 泰弘

鈴木 泰弘 について

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石井 信治

石井 信治 について

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ドナルド ダブリュ.ジョンソン

ドナルド ダブリュ.ジョンソン について


出願人/特許権者：
東洋合成工業株式会社

東洋合成工業株式会社 について

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マイクロ ケム コーポレーション

マイクロ ケム コーポレーション について


代理人 (1件)： 栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-224532
公開番号（公開出願番号）：特開2000-053601
出願日： 1998年08月07日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：
【要約】【課題】 化学増幅型レジスト等に有用な新規オニウム塩、並びに該オニウム塩を含有し、光感度が高く、優れたレジストパターンが得られ、パターン形状の安定性等に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 オニウム塩は下記構造からなる。また、感放射線性樹脂組成物は、下記構造のオニウム塩並びに酸解離基含有樹脂を含有する。【化1】【化2】
請求項（抜粋）：
下記式(1)または(2)で表されることを特徴とするオニウム塩。【化1】【化2】式中、R1及びR2は、同一でも異なっていてもよい芳香族有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、フェナシル基を表す。R8〜R10は同一でも異なっていてもよい芳香族有機基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、フェナシル基を表すか、またはこれらのうち2つが一緒になって2価の有機基を形成して硫黄原子とともに脂肪族もしくは芳香族の複素環式構造を形成していてもよい。R3〜R7は水素、ハロゲン、ニトロ基、低級アルコキシル基、低級アルキル基を表し、これらのうちの1つは第三級炭素原子を含むアルキル基であり、R3〜R7までの総炭素数は4〜7である。
IPC (14件)：
C07C 25/02 ,  C07C 43/225 ,  C07C309/28 ,  C07C381/12 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D333/50 ,  C07D333/76 ,  C07D335/02 ,  C07D335/10 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601
FI (14件)：
C07C 25/02 ,  C07C 43/225 C ,  C07C309/28 ,  C07C381/12 ,  C07D327/06 ,  C07D333/46 ,  C07D333/50 ,  C07D333/76 ,  C07D335/02 ,  C07D335/10 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601
Fターム (51件)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4C023JA05 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AB92 ,  4H006AC30 ,  4H006AC60 ,  4H006AC61 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB16 ,  4H006BB17 ,  4H006BB20 ,  4H006BE10 ,  4J002BC121 ,  4J002BG011 ,  4J002BH011 ,  4J002CD052 ,  4J002CD061 ,  4J002CD062 ,  4J002EA036 ,  4J002EA066 ,  4J002EB126 ,  4J002EE036 ,  4J002EJ026 ,  4J002EJ077 ,  4J002ES006 ,  4J002ET017 ,  4J002EU187 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002FD142 ,  4J002FD147 ,  4J002GQ05
引用特許：
審査官引用 (5件)
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