レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-169834
公開番号（公開出願番号）：特開2005-004093
出願日： 2003年06月13日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】レジストパターンの寸法制御性の向上。【解決手段】有機第四級アンモニウム塩基を主剤とし、下記一般式(I)で示される陰イオン性界面活性剤を含み、SO42-の含有量が0.01〜1質量%であることを特徴とするレジスト用現像液組成物。【化1】(式中のR1及びR2:少なくとも1つが炭素数5〜18のアルキル基又はアルコキシ基で、残りが水素原子、炭素数5〜18のアルキル基又はアルコキシ基、R3、R4及びR5:少なくとも1つがスルホン酸アンモニウム基又はスルホン酸置換アンモニウム基で、残りが水素原子、スルホン酸アンモニウム基又はスルホン酸置換アンモニウム基)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

有機第四級アンモニウム塩基を主剤するレジスト用現像液組成物において、下記一般式(I)で示される陰イオン性界面活性剤を含み、

IPC (2件)：

G03F7/32 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/32 , H01L21/30 569E

Fターム (9件)：

2H096AA25 , 2H096BA10 , 2H096EA02 , 2H096GA09 , 2H096GA10 , 2H096GA11 , 2H096GA13 , 2H096LA19 , 5F046LA12

引用特許：

審査官引用 (4件)

レジスト用現像液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-284929 出願人：東京応化工業株式会社
特開昭61-232453
特開昭64-072154

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