感放射線性樹脂組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089903
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188346
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)下記構造式(1)で表される骨格を、好ましくは下記構造式(2-1)または構造式(2-2)で表される基として、有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有する。(A)成分は、下記式(3)に示す各繰返し単位からなる共重合体等に代表される。【化1】【化2】【化3】

請求項（抜粋）：

(A)下記構造式(1)で表される骨格を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/28 , C08F 32/02 , C08F 32/08 , C08K 5/00 , C08L101/06 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/28 , C08F 32/02 , C08F 32/08 , C08K 5/00 , C08L101/06 , H01L 21/30 502 R

Fターム (44件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002AA051 , 4J002BG071 , 4J002BK001 , 4J002EN136 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 4J100AK32R , 4J100AL01Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AR09P , 4J100AR09Q , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA10P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BC53P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA39 , 4J100JA37 , 4J100JA38 , 4J100JA46

引用特許：

審査官引用 (3件)

ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-285762 出願人：富士写真フイルム株式会社
ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188853 出願人：日本電気株式会社
新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-255167 出願人：信越化学工業株式会社

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