特許
J-GLOBAL ID：200903001295202833
ポジ型感放射線性樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-016941
公開番号（公開出願番号）：特開平7-209861
出願日： 1994年01月18日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【構成】テルペンフェノール類と1,2-ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとのエステル化反応により得られるエステル体とアルカリ可溶性樹脂とを含有するポジ型フォトレジスト組成物を溶媒に溶解し感光液とする。この感光液をシリコンウェハーの様な基板上に塗布し、次にベークし乾燥させた後、微細パターンの描かれているマスクを通して紫外線等の放射線を照射し、更にベークし次いでアルカリ水溶液で現像処理することによりレジストパターンを得る。【効果】本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、解像性が極めて高く、得られたレジストパターン形状も優れているため半導体集積回路の製造に極めて有用である。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂及び式(1)【化1】(式中、Dは水素原子あるいは、1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホニル基を示す。ただし、少なくともどちらか1つは1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホニル基を示す。Rは-H、-OH、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールアルキル基、アシル基、アシルオキシ基を示す。l,mは1〜3の整数。)で示される感放射線性化合物を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/022
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
