構造体

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-354971
公開番号（公開出願番号）：特開2002-154183
出願日： 2000年11月21日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】耐擦傷性や透明性に優れた構造体を提供する。【解決手段】下記(A)〜(C)層を積層してなる構造体。(A)平均粒子径5〜300nmのシリカ粒子を含有する膜厚1〜30μmのハードコート層(B)平均粒子径5〜300nmの無機酸化物粒子を含有する膜厚0.05〜0.5μmの中間層であって、表面粗さRz(JIS B0601に準拠)が0.01〜2μmである中間層(C)フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいずれか一方の化合物を含有する膜厚0.05〜0.5μmの表面層

請求項（抜粋）：

下記(A)〜(C)層を積層してなる構造体。(A)数平均粒子径5〜300nmのシリカ粒子を含有する膜厚1〜30μmのハードコート層(B)数平均粒子径5〜300nmの無機酸化物粒子を含有する膜厚0.05〜0.5μmの中間層であって、表面粗さRz(JIS B0601に準拠)が0.01〜2μmである中間層(C)フッ素化合物およびケイ素化合物、あるいはいずれか一方の化合物を含有する膜厚0.05〜0.5μmの表面層

IPC (10件)：

B32B 27/20 , B32B 7/02 103 , B32B 27/30 , C09C 1/30 , C09D 4/02 , C09D 5/00 , C09D 7/12 , C09D201/00 , G02B 1/11 , G02B 1/10

FI (10件)：

B32B 27/20 Z , B32B 7/02 103 , B32B 27/30 A , C09C 1/30 , C09D 4/02 , C09D 5/00 Z , C09D 7/12 , C09D201/00 , G02B 1/10 A , G02B 1/10 Z

Fターム (72件)：

2K009AA02 , 2K009AA15 , 2K009BB24 , 2K009CC03 , 2K009CC09 , 2K009CC24 , 2K009CC26 , 2K009DD02 , 4F100AA17B , 4F100AA28 , 4F100AA29 , 4F100AA33 , 4F100AB11C , 4F100AH05A , 4F100AH06A , 4F100AK02C , 4F100AK17 , 4F100AK17J , 4F100AK21 , 4F100AK21J , 4F100AK25C , 4F100AK41 , 4F100AK51 , 4F100AK51J , 4F100AK52 , 4F100AK52J , 4F100AL01 , 4F100AL06C , 4F100AT00D , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100BA10D , 4F100DD07B , 4F100DE01B , 4F100DE01C , 4F100EJ54C , 4F100GB41 , 4F100JA20 , 4F100JB14C , 4F100JK09 , 4F100JK12C , 4F100JM02A , 4F100JM02B , 4F100JM02C , 4F100JN01 , 4F100JN18A , 4F100JN18B , 4J037AA18 , 4J037CC16 , 4J037CC26 , 4J037CC28 , 4J037DD05 , 4J037EE02 , 4J037EE11 , 4J037FF17 , 4J037FF18 , 4J038FA121 , 4J038HA446 , 4J038KA08 , 4J038KA14 , 4J038KA20 , 4J038MA14 , 4J038NA01 , 4J038NA05 , 4J038NA10 , 4J038NA11 , 4J038NA14 , 4J038NA19 , 4J038NA21 , 4J038PA17

引用特許：

審査官引用 (13件)

反射防止膜およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-076489 出願人：富士写真フイルム株式会社
反射防止膜及び反射防止部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-265807 出願人：日東電工株式会社
低反射樹脂基材
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-050189 出願人：住友化学工業株式会社

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