特許

J-GLOBAL ID：200903001322971755

ウェハ端面検査装置

発明者： 山内 博 ,  菊地 健司 ,  玉谷 英二 ,  西山 雅博
出願人/特許権者： 富士通エイ・エム・ディ・セミコンダクタ株式会社 ,  株式会社オー・エイ・ケー
代理人 (1件)： 荒船 良男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-370315
公開番号（公開出願番号）：特開2003-166945
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】 精度がよく、しかも速度が速いウェハ端面検査装置を提供すること。【解決手段】 ウェハを周方向に回転させる回転手段と、ウェハの周縁の移動域に先端を臨ませて設置した投光用光ファイバーと、ウェハの周縁の移動域に先端を臨ませて設置した受光用光ファイバーと、前記投光用光ファイバーの他端に設置した光源と、前記受光用光ファイバーの他端に接続し、前記受光用光ファイバーからの光量に基づくデータを処理するコントローラとを備えたことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

ウェハを周方向に回転させる回転手段と、ウェハの周縁の移動域に先端を臨ませて設置した投光用光ファイバーと、ウェハの周縁の移動域に先端を臨ませて設置した受光用光ファイバーと、前記投光用光ファイバーの他端に設置した光源と、前記受光用光ファイバーの他端に接続し、前記受光用光ファイバーからの光量に基づくデータを処理するコントローラとを備えたことを特徴とするウェハ端面検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/00 C ,  G01B 11/30 A ,  H01L 21/66 J

Fターム (55件)：

2F065AA12 ,  2F065AA49 ,  2F065BB03 ,  2F065BB16 ,  2F065BB24 ,  2F065BB26 ,  2F065BB28 ,  2F065CC19 ,  2F065DD02 ,  2F065DD03 ,  2F065DD05 ,  2F065FF41 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG13 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065KK01 ,  2F065LL03 ,  2F065LL22 ,  2F065MM04 ,  2F065PP01 ,  2F065PP13 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ04 ,  2F065SS02 ,  2F065SS04 ,  2F065SS06 ,  2F065SS13 ,  2F065TT01 ,  2F065TT02 ,  2F065TT03 ,  2F065UU01 ,  2F065UU02 ,  2F065UU04 ,  2G051AA51 ,  2G051BA20 ,  2G051BB07 ,  2G051BB17 ,  2G051CB01 ,  2G051CC17 ,  2G051DA06 ,  2G051DA13 ,  2G051EB01 ,  2G051ED22 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA50 ,  4M106DH03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 欠陥検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-262520   出願人：株式会社神戸製鋼所, ジェネシス・テクノロジー株式会社
• 基板検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-097186   出願人：国際技術開発株式会社