特許
J-GLOBAL ID：200903001338332841
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-029947
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234327
出願日： 2002年02月06日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 強誘電体材料を用いることにより導波管の耐熱性を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体Wを載置する載置台46を真空引き可能になされた処理容器44内に設け、前記処理容器の天井の開口部にマイクロ波透過板72を介して平面アンテナ部材76を設けると共に、前記平面アンテナ部材の上方を覆うように接地されたシールド蓋体80を設け、マイクロ波発生源からのマイクロ波を導波管を介して前記平面アンテナ部材へ供給するようにしたプラズマ処理装置において、前記導波管は、強誘電体材料を用いた強誘電体導波管94よりなるように構成する。これにより、導波管の耐熱性を向上させる。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置する載置台を真空引き可能になされた処理容器内に設け、前記処理容器の天井の開口部にマイクロ波透過板を介して平面アンテナ部材を設けると共に、前記平面アンテナ部材の上方を覆うように接地されたシールド蓋体を設け、マイクロ波発生源からのマイクロ波を導波管を介して前記平面アンテナ部材へ供給するようにしたプラズマ処理装置において、前記導波管は、強誘電体材料を用いた強誘電体導波管よりなることを特徴とするプラズマ処理装置。
Fターム (3件)：
5F004BA14
, 5F004BB14
, 5F004BB29
