特許
J-GLOBAL ID:200903001354879320
粘性媒質を噴射する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-535455
公開番号(公開出願番号):特表2004-511333
出願日: 2001年10月09日
公開日(公表日): 2004年04月15日
要約:
本発明は、実行中に粘性媒質の小滴を基板に噴射する装置の噴射アセンブリの性能を改善する方法に関する。噴射アセンブリは、装置に着脱式に装着され、ノズル、ノズルに接続された排出機構、および排出機構に接続された粘性媒質容器を備える。XY位置およびZ位置に関する情報を、ノズルを出る時に粘性媒質の小滴が有する出口速度に関する情報とともに獲得する。情報は、その後に小滴を噴射するため、ノズルのトリガ位置を調節するベースとして使用する。本発明は、校正測定中に獲得されたアセンブリの特性の校正情報を受信し、保持するよう構成された記憶手段を備える、このような噴射アセンブリにも関する。
請求項(抜粋):
実行中に粘性媒質の小滴を基板上に噴射する装置で、噴射アセンブリの性能を改善する方法であって、前記噴射アセンブリは、前記噴射を実施するために前記装置に着脱式に装着され、前記噴射アセンブリは、ノズル、ノズルに接続された排出機構、および排出機構に接続された粘性媒質容器を備え、
-校正表面に対するノズルのXY位置に関する情報を獲得するステップを含み、XY位置は、校正表面の面に平行な面におけるノズルの位置であり、さらに、
-ノズルのZ位置に関する情報を獲得するステップを含み、Z位置は、ノズルと校正表面間の距離であり、さらに、
-前記小滴が前記ノズルを出る時に粘性媒質の小滴が有する出口速度に関する速度情報を獲得するステップと、
-ノズルのXYに関する前記情報、ノズルのZ位置に関する前記情報、および前記速度情報に基づき、その後の小滴噴射のためにノズルのトリガ位置を調節するステップとを含む方法。
IPC (4件):
B05D1/26
, B05D3/00
, B41J2/01
, H05K3/34
FI (4件):
B05D1/26 Z
, B05D3/00 D
, H05K3/34 505B
, B41J3/04 101Z
Fターム (27件):
2C056EB35
, 2C056EB36
, 2C056EB37
, 2C056EC35
, 2C056FA15
, 2C056FB05
, 2C056FB08
, 4D075AC06
, 4D075AC09
, 4D075AC88
, 4D075AC93
, 4D075AC94
, 4D075CA12
, 4D075CA22
, 4D075CA23
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB31
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075EA14
, 4D075EA35
, 5E319BB05
, 5E319CD22
, 5E319CD27
, 5E319GG15
引用特許: